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H 型光電反應釜

簡要描述:

H 型光電反應釜能夠實現控溫耐高壓操作,耐壓 10MPa,采用 316L 不 銹鋼釜體,內部與溶液可能接觸的部位噴涂 PFA,保證了耐高溫&lt;200℃;溫度控制采用的夾 層水浴或油浴控制,熱傳導速度快。

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YZEPCR-H  H 型光電反應釜又叫:H 型光電反應器、雙通道光電反應器、H 型可換膜光電反應器、雙通道光電反應釜。 此裝置能夠實現控溫耐高壓操作,耐壓 10MPa,采用 316L 銹鋼釜體,內部與溶液可能接觸的部位噴涂 PFA,保證了耐高溫<200℃;溫度控制采用的夾層水浴或油浴控制,熱傳導速度快。
 中間可以添加離子膜,用于雙室反應光電反應,也可以當做兩個獨立的光電反應釜使用,實現了一機多用。標配電極為三支,全部采用 PEEK 材料,電極既可以耐溫,又可以耐壓。
YZEPCR-H H 型光電反應釜參數表:
項目
參數
光電反應釜
316L 耐腐蝕不銹鋼,內部全部噴涂 PTFE
H 型雙室反應體系,單室可單獨使用,單室容積 100ml
耐壓
<10MPa,含進出氣體閥門
溫度
<100℃(水浴控溫),<200(油浴控溫),控溫精度 0.1℃釜體內部
標配控溫夾層,內部測溫采用 Pt100,含溫度顯示表;通水孔 12mm
電極
PEEK 三電極(標配),選配進口耐高溫耐壓參比電極
通光孔
Φ40mm,藍寶石(全光譜高透),雙通光孔
要求離子膜規格
直徑 50mm
閥門
巖征儀器高溫高壓針閥
密封
耐高溫密封圈
光源(選配)
氙燈光源、LED 光源、汞燈光源
控溫循環機
(選配)
循環控制系統

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